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濕電子化學(xué)品概述及分類濕電子化學(xué)品概述 濕電子化學(xué)品,又稱超凈高純試劑或工藝化學(xué)品,是指主體成分純度大于 99.99%,雜質(zhì)離子和微粒數(shù)符合嚴(yán)格要求的化學(xué)試劑。主要以上游硫酸、 鹽酸、 氫氟酸、 氨水、 氫氧化鈉、 氫氧化鉀、 丙酮、 乙醇、 異丙醇等為原料,經(jīng)過預(yù)處理、 過濾、 提純等工藝生產(chǎn)得到的高純度產(chǎn)品。 濕電子化學(xué)品是微電子、光電子濕法工藝制程中使用的各種液體化工材料,是電子技術(shù)與化工材料相結(jié)合的創(chuàng)新產(chǎn)物,具有技術(shù)門檻高、資金投入大、產(chǎn)品更新?lián)Q代快等特點(diǎn)。 濕電子化學(xué)品的分類 1.按用途分 濕電子化學(xué)品按用途主要分為通用化學(xué)品和功能性化學(xué)品兩類。其中通用化學(xué)品以高純?nèi)軇橹鳎缪趸瘹、氫氟酸、硫酸、磷酸、鹽酸、硝酸等;功能性化學(xué)品指通過復(fù)配手段達(dá)到特殊功能、滿足制造中特殊工藝需求的配方類或復(fù)配類化學(xué)品,主要包括顯影液、剝離液、清洗液、刻蝕液等。 2.按應(yīng)用領(lǐng)域分 濕電子化學(xué)品目前廣泛應(yīng)用在半導(dǎo)體、平板顯示、太陽能電池等多個(gè)領(lǐng)域,其中液晶面板領(lǐng)域增速快。即按下游產(chǎn)品應(yīng)用的工藝環(huán)節(jié)分,主要有平板顯示制造工藝的應(yīng)用、半導(dǎo)體制造工藝的應(yīng)用及太陽能電池板制造工藝的應(yīng)用。 其中平板顯示制造領(lǐng)域?qū)耠娮踊瘜W(xué)品的需求量最高,半導(dǎo)體制造工藝用濕電子化學(xué)品是技術(shù)要求最高,太陽能電池板制造用濕電子化學(xué)品盈利能力一般。 濕電子化學(xué)品主要應(yīng)用在半導(dǎo)體、平板顯示、太陽能光伏領(lǐng)域等微電子器件制造領(lǐng)域,廣泛應(yīng)用于超大規(guī)模集成電路、LED、TFT-LCD面板制造過程、太陽能硅片的蝕刻與清洗。 超凈高純試劑的應(yīng)用多種多樣,例如在晶圓生產(chǎn)過程中對于晶圓的清洗,在芯片制造光刻工藝中的刻蝕、顯影和洗脫過程,同時(shí)在芯片制造和 PCB 板制造中的電鍍液(例如硫酸銅)的制備原料硫酸也屬于超凈高純試劑范疇。晶圓清洗試劑是前端加工關(guān)鍵工藝。由于集成電路內(nèi)各元件及連線相當(dāng)微細(xì),因此制造過程中,如果遭到塵粒、金屬的污染,很容易造成晶片內(nèi)電路功能的損壞,形成短路或斷路等,導(dǎo)致集成電路的失效以及影響幾何特征的形成。因此在集成電路加工之前,必須對晶圓進(jìn)行清洗,清除殘留在晶圓上之微塵、 金屬離子及有機(jī)物之雜質(zhì)。 |